机械设备行业半导体设备专题报告（一）：前道设备，扼喉之手，亟待突破！-20230516-天风证券
- 报告编号：143449
- 报告名称：机械设备行业半导体设备专题报告（一）：前道设备，扼喉之手，亟待突破！-20230516-天风证券
- 报告来源：互联网用户上传
- 关键词：行研报告
- 报告页数：78 页
- 预览页数：6
- 报告格式：pdf
- 上传时间：2024-08-07
- 简介摘要: (原创分析) 本文提供了关于半导体行业中半导体设备的研究报告，包括光刻机、刻蚀设备以及薄膜沉积设备的市场现状、技术特点、应用及竞争格局。报告指出，光刻机市场主要由ASML、Nikon和Canon三家公司主导，其中ASML在高端光刻机领域占据绝对优势。刻蚀设备市场则主要由Lam、TEL和AMAT等美日厂商垄断，而国内的中微公司和北方华创在刻蚀设备领域逐步取得突破。薄膜沉积设备市场则高度集中，主要由欧美和日系厂商主导，但国内厂商如拓荆科技、北方华创、微导纳米等也在特定领域取得了显著进展。报告还详细介绍了光刻、刻蚀和薄膜沉积的基本原理、应用及市场趋势，揭示了随着制程微缩和芯片架构3D化，刻蚀设备的重要性日益凸显，以及国内厂商在追赶国际先进技术的同时，通过差异化竞争寻求突破。此外，报告还提及了设备选型应考虑的薄膜性质，以及不同工艺所需的薄膜沉积设备和刻蚀设备的类型和应用。
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