半导体行业：掩模版，光刻蓝本蓄力国产替代，国内成长空间广阔-20231021-华安证券

1. 报告编号：150097
2. 报告名称：半导体行业：掩模版，光刻蓝本蓄力国产替代，国内成长空间广阔-20231021-华安证券
3. 报告来源：互联网用户上传
4. 关键词：行研报告
5. 报告页数：21 页
6. 预览页数：6
7. 报告格式：pdf
8. 上传时间：2024-08-07
9. 简介摘要: (原创分析) 本报告由华安证券电子行业首席分析师陈耀波撰写，详细分析了掩模版在微电子制造过程中的重要性和其在国内市场的应用前景。报告指出，掩模版作为图形转移工具，其精度和质量直接影响下游制品的优品率。随着制程和产品复杂度的提升，以及新兴技术的推动，全球掩模版市场规模有望增长。国内市场对三方掩模版厂商需求较大，国产化空间广阔。本土企业如路维光电和清溢光电等已积极布局，并有望率先实现国产替代。报告还关注了两家主要上市公司的财务状况和未来的产能规划，同时提出了市场竞争加剧、重资产经营等风险。分析师和团队在报告末尾提供了免责声明，并强调了投资评级说明。整体而言，报告认为掩模版行业具有投资潜力，建议关注相关上市公司。

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